教員詳細 准教授 末吉 哲郎 SUEYOSHI TETSURO 所属 九州産業大学 理工学部 電気工学科 学位 学術博士 ホームページ シーズ集 専攻分野・研究テーマ 専門分野 電気電子材料工学, 薄膜、表面界面物性 研究テーマ 計算機シミュレータを用いた超伝導体の高臨界電流密度化に対するナノ構造デザインの最適化 、 重イオンビーム材料設計による高機能高温超伝導薄膜の創製 授業科目 学生のみなさんへのメッセージ 学歴 1999/03/31 熊本大学 自然科学研究科 博士後期課程 修了 学術博士 (磁性、超伝導、強相関系) 研究業績 論文 Morphology of Columnar Defects Dependent on Irradiation Direction in High-Tc Superconductors 2022/09 Summation of flux pinning by columnar defects tilted at different angles in YBCO thin films 2021/08 Modification of Critical Current Density Anisotropy in High-Tc Superconductors by Using Heavy-Ion Irradiations 2021/05 Combined effect of flux pinning by three-directional columnar defects in a field-angular region of high-Tc superconductors 2021/03 Strong flux pinning by columnar defects with directional dependent morphologies in GdBCO coated conductors irradiated with 80 MeV Xe ions 2020/02 全件表示（16件） 所属学会 1998/04/24 ～ 低温工学・超電導学会 2002/06/22 ～ 電気学会 2009/05/20 ～ 応用物理学会 2020/04/01 ～ ∟ 11.3中分類プログラム編集委員 研究課題・受託研究・科研費 2022/04/01 重イオンビーム特有の材料設計による高機能高温超伝導薄膜の創製 研究課題 基盤研究(C) 2019/04/01 ミストCVD法による窒化物半導体の表面パッシベーション・絶縁ゲート構造の開発 基盤研究（C） 2019/04/01 不連続ナノ線状欠陥のハイブリッドピン止めによる高機能高温超伝導薄膜の創成 基盤研究（C） 2018/04/01 イオンビーム照射による高温超伝導体へのピンニングセンタ形成技術に関する研究 国内共同研究 2016/04/01 ハイブリッドピン止め構造による高温超伝導体の全磁場方向の高臨界電流密度化 基盤研究（C） 全件表示（10件） 学会発表 2022/10/24 Effect of Defect Morphology on Flux Pinning Properties in Heavy Ion Irradiated REBCO Films （ポスター，一般） 2022/09/22 高温超伝導薄膜中の形状の異なる柱状欠陥のピン止め特性 （口頭発表，一般） 2021/03/17 50 MeV Krと200 MeV Xeイオンを照射した高温超伝導体の臨界電流密度特性 （口頭発表，一般） 2021/03/17 低エネルギーAuイオン照射GdBa2Cu3Oy線材におけるJcの磁場角度依存性 （口頭発表，一般） 2020/11/04 Competition between flux pinning effects by columnar defects oriented at different angles in YBCO thin films （ポスター，一般） 全件表示（30件） researchmap研究者コード 1000253144
